김준환 대표이사, Siemens EDA Korea
반도체 기반 제품에 대한 사회적 수요가 폭발적으로 증가하면서 반도체는 이제 전 세계 지정학적 논란의 중심에 있습니다. 반도체가 거의 모든 분야에서 핵심 제품 차별화를 주도하고 있는 지금, 고품질 첨단 반도체 공정과 첨단 이기종 패키징 에코시스템의 광범위한 가용성은 귀사의 성공에 매우 중요합니다. 본 세션에서는 Siemens가 어떻게 첨단 제조, AI로 강화된 설계 자동화 기술 그리고 개방형 에코시스템 지원을 통해 차세대 설계를 가능하게 할 수 있는지 논의합니다.
원문보기Exploding societal demand for semiconductor-enabled products means that semiconductors are now a central part of the worldwide geopolitical discussion. With semiconductors now driving core product differentiation in virtually all areas, broad availability of high-quality leading-edge semiconductor processes and an advanced heterogeneous packaging ecosystem is critical to your success. Let’s explore how Siemens are delivering advanced manufacturing, AI enhanced design automation tooling, and open ecosystem enablement – to enable your next generation of designs.
발표자
Mike Ellow CEO, Siemens EDA Silicon Systems
자세히 보기반도체 산업에서의 급속한 기술 발전은 새로운 공정 기술과 설계 플랫폼의 혁신을 요구하며, 이는 제품 성능과 시장 경쟁력에 중대한 영향을 미치고 있습니다. 특히 AI 반도체 시장의 빠른 성장과 더불어 테이터 처리량이 급증하고 있으며, 이를 지원하기 위해 삼성파운드리는 최첨단의 공정, 설계 그리고 EDA solution 을 제공할 준비가 되어 있습니다. 본 키노트에서는 AI 반도체의 설계 및 성능 향상에 필요한 삼성 파운드리의 (1) 최신 SF2, SF3 공정 특징 및 로드맵, (2) PPA 최적화 위한 삼성 파운드리의 DTCO 및 Muti-Die Integration(MDI) , 그리고 (3) 최신 PDK 기능 등을 소개하고 이의 구현을 위한 지멘스 EDA 와의 소중한 파트너쉽을 강조하고자 합니다.
발표자
이성재상무, Samsung Electronics
자세히 보기CI/CD 와 Shfit-Left 는 소프트웨어 설계에서 최종산출물의 품질 향상 및 개발 효율성을 증대하기 위해 널리 사용되고 있는 개념입니다. 최근에는 반도체 설계에서도 CI/CD 및 Shift-Left 의 개념을 적용하여, 개발 생산성을 높이기 위한 노력을 다양하게 시도하고 있습니다. 반도체 설계에서 이런 개념이 어떻게 적용될 수 있는지 살펴보고, Digital Front-End Designer 관점에서 이를 더 효율적으로 적용할 수 있는 방법에 대한 고민과 제안들에 대해서 공유하도록 하겠습니다.
발표자
이상헌연구위원, LG Electronics
자세히 보기최근 몇 년 동안 효율적인 신경망 구현에 대한 수요가 기하급수적으로 증가했습니다. High Level Syntheis툴인 Catapult HLS는 이 분야의 게임 체인저로 부상했습니다. DNN(심층 신경망) 기반의 이미지/비디오 처리 IP인 Catapult HLS를 사용하여 PQO를 성공적으로 설계한 BlueDot의 사례는 Catapult HLS가 어떻게 신경망 설계를 가속화하여 출시 시간을 단축하고 성능을 향상시키는지 보여줍니다.
원문보기In recent years, the demand for efficient neural network implementations has grown exponentially. Catapult HLS, a high-level synthesis tool, has emerged as a game-changer in this domain. BlueDot’s successful design of PQO using Catapult HLS—an Image/Video processing IP based on DNN (Deep Neural Network)—demonstrates how Catapult HLS accelerates neural network designs, enabling faster time-to-market and improved performance.
발표자
이웅원, H/W Architect, BlueDot
정안선 Sr. Consultant Application Engineer, Siemens EDA
공정 레시피가 복잡해지면서 기존 공정에서 발생하지 않던 새로운 유형의 불량이 지속적으로 발생하고 있으며, 주요 불량이 되고 있습니다. 삼성 파운드리는 지멘스와 협업하여 다양한 불량을 1:1로 정확하게 모델링할 수 있는 플로우를 개발 및 개선하고 실제 제품에서 그 효과를 검증하고 있습니다. 이번 발표에서는 기존 결함 기반 불량 모델링의 한계를 소개하고, 협업을 통해 개선된 모델링 및 불량 분석 적용 플로우를 소개합니다. 개발된 플로우를 통해 기존 모델링에서 정확히 일치하지 않거나 커버하지 못했던 실제 결함까지 ATPG/진단 플로우에서 고려할 수 있게 되었습니다. 체적 진단 측면에서는 보다 높은 해상도의 분석 결과를 도출할 수 있을 것으로 보입니다.
원문보기As process recipes become more complex, additional types of defects that did not occur in existing processes are continuously being created and are appearing as major defects. Samsung Foundry is collaborating with Siemens to develop and improve a flow that can accurately model various defects one-to-one and is verifying the effect in actual products. In this presentation, we introduce the limitations of existing fault-based defect modeling and introduce improved modeling and defect analysis application flow through collaboration. Through the developed flow, actual defects that were not accurately matched or covered in existing modeling can now be considered in the ATPG/diagnosis flow. In terms of volume diagnosis, it appears that higher resolution analysis results can be derived.
발표자
박재석, Research Engineer, Samsung Electronics
자세히 보기DFT 패턴의 전력 관리는 칩의 고밀도, 기술 노드의 발전에 따른 VDD 축소 속도 저하, DFT 패턴의 높은 활동성으로 인해 발생하는 중요한 문제입니다. 일반적으로 DFT 패턴은 전력 관련 문제와 동적 IR 강하 문제로 인해 테스터에서 실패합니다. 이 세션에서는 선도적인 하드웨어 지원 검증 플랫폼인 Veloce를 사용하여 테스트용 설계(DFT) 패턴과 관련된 전력 영향 및 동적 IR 강하 효과를 다룹니다. DFT 패턴은 일반적으로 기능 패턴에 비해 3~4배 더 많은 활동을 생성하지만, 전력 공급 네트워크는 주로 기능 패턴을 지원하도록 설계되었습니다. 이러한 불일치는 종종 테스터의 테스트 실패로 이어져 테스트 통과를 위해 수정이 필요합니다.
Veloce를 활용하여 포괄적인 pre-silicon 분석을 수행하여 다양한 DFT 패턴에 의해 유발되는 전력 소비 및 IR 강하 특성을 평가합니다. 전력 관련 문제를 조기에 발견하고 완화하는 것이 중요하다는 것을 입증하고, 전력 효율과 IR 강하 감소를 위한 pre-silicon DFT 패턴을 식별하고 해결할 수 있는 방법론을 제시합니다. Veloce DFT 앱을 사용하면 기존 시뮬레이션보다 수천 배 빠른 속도로 DFT 패턴을 실행할 수 있습니다. Veloce Power 앱과 Veloce IR 드롭 툴은 리버티, 활동 및 SPEF 파일을 사용하여 상세한 분석을 수행하여 DFT 패턴에 대한 정확하고 통찰력 있는 정보를 제공합니다. 이 솔루션은 DFT 및 테스트 엔지니어가 pre-silicon 검증 프로세스를 개선하고 신뢰할 수 있는 DFT 패턴을 보장하며 테스트 시간을 단축할 수 있는 유용한 프레임워크를 제공합니다.
Power management of DFT patterns is a significant problem driven by the high density of chips, the slowdown of VDD shrinkage with advancing technology nodes, and the high activity of DFT patterns. Commonly, DFT patterns fail on the tester due to power-related issues and dynamic IR drop challenges. This session addresses the power implications and dynamic IR drop effects associated with Design for Test (DFT) patterns using Veloce, the leading hardware assisted verification platform. DFT patterns typically create 3 to 4 times more activity compared to functional patterns, yet the power delivery network is primarily designed to support functional patterns. This discrepancy often leads to test failures on the tester, necessitating modifications to ensure tests pass.
By leveraging Veloce's capabilities, we conduct comprehensive pre-silicon analyses to evaluate the power consumption and IR drop characteristics induced by various DFT patterns. We demonstrate the importance of early detection and mitigation of power-related issues, presenting methodologies to identify and remedy DFT patterns for power efficiency and IR drop reduction pre-silicon. The Veloce DFT app allows for running DFT patterns thousands of times faster than traditional simulation. The Veloce Power App and Veloce IR Drop tool perform detailed analyses using Liberty, activity, and SPEF files to provide accurate and insightful information for DFT patterns. This solution offers a valuable framework for DFT and test engineers to enhance pre-silicon verification processes, ensure reliable DFT patterns, and reduce test time.
발표자
Amir Attarha, Siemens EDA
Robert Serphillips, Product Manager, Siemens EDA
CalibreKR CheckStore에서 Calibre PERC를 사용해 개발된 마커 기반 P2PCD의 간편하고 효율적인 기능을 확인하세요. 이 강력한 기능을 사용하면 짧은 런타임으로 레이아웃의 특정 지점에서 P2P 및 CD 측정값을 쉽게 확인할 수 있습니다. 마커 기반 P2PCD의 다양한 기능을 살펴보고 LG전자가 수행한 실제 사례 연구를 통해 알아보세요.
원문보기Discover the simplicity and efficiency of Marker Based P2PCD, a feature developed using Calibre PERC, in CalibreKR CheckStore. This powerful feature makes it easy to verify P2P and CD measurements at specific points on a layout, all with a short runtime. Join us as we explore the various functionalities of Marker Based P2PCD and learn from real-world case studies conducted by LG Electronics.
발표자
김민선, SoC design & method development specialist, LG Electronics
변선수, Sr. AE Consultant, Siemens EDA
오늘날의 복잡한 컴퓨팅 시스템 설계자는 다양한 신기술을 사용하여 설계할 수 있습니다. 칩 수준에서 3DIC 패키징은 무어의 법칙을 깨고 D2D 상호 연결을 위한 새로운 UCIe 프로토콜을 사용하며 칩렛 경제를 창출합니다. 보드 레벨에서는 빠르고 넓은 혼합 신호 인터페이스를 갖춘 PCIe7을 통해 무결성과 보안을 보장하면서 속도 한계를 극복하고 확장 가능한 CPU, 컴포저블 메모리 및 특수 AI/ML 코프로세서를 위한 CXL3.1 레이어드 프로토콜을 구현할 수 있습니다. 마지막으로 모든 하드웨어를 둘러싼 소프트웨어 계층으로 시스템을 완성하는 것인데, 이제 VICS 제품을 통해 시뮬레이션 및 에뮬레이션에서 RTL 하드웨어 VIP와 함께 소프트웨어를 검증할 수 있습니다. Avery VIP는 이 모든 하드웨어와 소프트웨어에 대한 검증 솔루션을 제공하며 팀에 가속화된 확신을 제공합니다.
원문보기Architects of today’s complex compute systems can design using a rich amount of new technology. At chip-level, 3DIC packaging breaking Moore’s Law, using the new UCIe protocol for D2D interconnect and creating a Chiplet economy. At board-level - PCI Express Gen 7 (PCIe7) with fast and wide mixed signal interfaces, breaking speed limits while ensuring integrity and security, and enabling CXL3.1 layered protocol for scalable CPUs, composable memory and specialized AI/ML coprocessors. And finally, completing the system with Software layers around all that hardware - which with our VICS products we can now verify Software alongside our RTL Hardware VIPs, in simulation and in emulation. Avery VIP provides verification solutions for all that hardware and software and delivers Accelerated Confidence to your team.
발표자
방실이, Sr. Application Engineer, Siemens EDA
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